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常用清洁技术包括什么技术,水的净化方法常用的有哪几种

常用清洁技术包括什么技术目录

实施清洁生产的基本途径主要有哪些

水的净化方法常用的有哪几种

半导体晶片的高清洁度清洗方式是什么?

常见的清洁技术包括:

1.物理清洁技术:如擦拭、清洗、吸尘等。

2。化学清洁技术:使用清洁剂、溶剂、酸碱等化学物质进行清洁。

3.生物清洁技术:利用微生物、酶等生物技术进行清洁。

4.高压水冲洗技术:利用高压水喷射冲洗污垢。

5.超声波清洗技术:利用超声波振动清洗微小物体表面的污垢。

6.气体清洗技术:利用气体的物理性质对表面进行清洗。

7.激光清洗技术:利用激光束清洗表面污垢。

8.纳米清洗技术:利用纳米材料对表面进行清洗和修复。

9.离子束清洗技术:利用离子束清洗表面。

10。等离子体清洗技术:利用等离子体清洗表面。\\ \"

实施清洁生产的基本途径主要有哪些

(1)清洁高效的利用能源和原材料。

加快以清洁利用化石燃料和节能为重点的技术进步和技术改造,提高能源和原材料的利用效率。

(2)清洁生产过程。

采用少、无生产工艺技术和高效生产设备;尽量少用,不用有毒有害的原料就行;减少生产过程中的各种危险因素和有毒有害的中间产品;组织物质的再循环;优化生产组织实施科学的生产管理;采取必要的污染措施,实现清洁和高效的利用和生产。

(3)干净的产品。

产品应当具有合理的使用功能和使用寿命;产品本身及使用过程中,对人体健康和生态环境不产生或少产生不良影响和危害;产品失去功能后应该使用,简单回收,再生复用等。

清洁生产需要两个“全过程”控制。

—控制产品生命周期的全过程。

即在从原材料加工、提炼到产品生产、产品使用、废弃处理的各个阶段采取必要的措施,实现产品全生命周期资源和能源消耗的最小化。

控制生产的全过程。

即从产品的开发、规划、设计、建设、生产到运营管理的全过程,采取措施,提高效率,防止生态系统的破坏和污染的发生。

清洁生产的最大特点是不断改进。

清洁生产是一个相对的动态概念

无污染工艺技术、生产工艺、无污染产品是指与现有工艺和产品相比较的产品。

推进清洁生产本身就是一个不断完善的过程,需要随着社会经济的发展和科学技术的进步,适时提出新的目标,努力达到更高的水平。

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水的净化方法常用的有哪几种

由于自然界的水含有很多物质和细菌,不应混和直接饮用,根据水质的不同,需要对水进行净化处理,常用的水净化方法有:

1

静置沉淀法:利用明胶溶于水后生成的明胶对杂质的吸附,使杂质沉淀,达到净水的目的。

2

吸附沉淀法:用具有吸附作用的固体过滤液体,既能过滤液体中的不溶性物质,又能吸附一些溶解的杂质,去除臭味。

例如:有些净水器利用活性炭吸附水中的杂质,进行过滤。

净化后的水虽然澄澈,但不是纯水。

3

过滤:将不溶于液体的固体与液体分开的方法。

4

蒸馏:是根据各物质沸点不同的原理,分离相互溶解的液体的方法。

净化度比较高。

蒸馏水的过程是物理变化。

5

杀菌:水中含有细菌、病原菌。

放入适量的药杀菌、消毒。

例如:漂白粉、氯气和新型消毒剂二氧化氯等。

6

煮沸:溶解较多钙、镁物质的水是硬水,长期饮用硬水对人体健康不利,生活中可用煮沸的方法减少或消除硬水的危害。

7

净水器:可以过滤杀死水中的一些致癌物质和病毒。

半导体晶片的高清洁度清洗方式是什么?

晶圆的清洗技术大致分为湿式和干式两种,现在以湿式为主流。

1.是吗?湿式清洗技术吗?

湿式清洗技术是用液状酸碱溶剂和去离子水的混合物对晶圆表面进行清洗,使其湿润干燥的过程。

大致可分为以下两种。

(1)吗?湿化学清洗。

(2)吗?湿?这是一种用程序去除微粒的技术。

2.是吗?干式表面清洗技术吗?

干式晶圆去除技术中,去除的方法主要有三种:?(a)把污染物变成挥发性化合物。

吗?(b)利用运动量直接抬高污染物并清除。

吗?(c)应用加速离子,使污染物破碎。

大致可分为以下两种。

(1)吗?干式表面污染物去除技术吗?

(2)吗?干式表面微粒子去除技术。

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