等离子体清洁技术,等离子体清洗技术是什么，具有什么特点？

什么是等离子清洗技术?

等离子体清洗技术是什么，具有什么特点？

等离子清洁技术是一种新的表面清洁技术。利用等离子体的化学反应和物理效果来清洁表面。等离子体是一种高温、低压、高能的气体，它能将表面的有机、无机污染物分解成无害的气体和水，使表面清洁。等离子体清洁技术具有高效、环保、节能等优点，可广泛应用于半导体、光学、航空航天等领域的表面清洁和改性。\\ \"

什么是等离子清洗技术?

等离子体是物质存在状态的一种，通常物质以固体、液体、气体三种状态存在，但在一些特殊情况下会存在第四种状态。例如，地球大气中的电离层中的物质。

等离子体的状态有以下物质。高速运动的电子。中性原子，分子，原子团(自由基)的状态激活。原子和分子发生离子化。分子和原子不发生反应，物质保持电中性。

在真空腔中，通过射频电源在一定压力的情况下产生发光的高能无序等离子体，攻击被等离子体清洗的产品表面，达到清洗的目的。

优势:

一、清洗对象等离子体清洗后已干燥，无需再经过干燥处理即可送往下一道工序。

可以提高整个流程处理线的效率;

二、等离子清洗可以使用户远离有害溶剂对人体的伤害，同时在湿式清洗中方便清洗对象的问题;

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，所以这种清洗方法属于绿色环保的清洗方法。

这在全球高度保护环境的情况下越来越显示出它的重要性;

四、电波范围的高周波产生的等离子体，与激光等直射光线不同。

等离子体的方向性不强，可以深入到物体的微小孔隙和凹陷中进行清洗，因此不需要考虑要清洗的物体的形状。

而且对这些疑难部位的清洗效果与氟利昂的清洗效果相似更好;

五、使用等离子体清洗，清洗效率可以得到极大的提高。

由于整个清洗工艺流程只需几分钟就能完成，因此具有产量高的特点。

等离子体清洗技术是什么，具有什么特点？

等离子体和固体、液体、气体一样，是物质的状态。

对气体施加足够的能量使其变成等离子状态。

等离子体的“活性”成分包括离子、电子、活性基团、激发态核素(亚稳态)、光子等。

通过控制和控制这些活性成分聚集后的性能，可以进行各种各样的表面处理，如纳米级的清洗、活性表面的浸润性、化学移植、外衣堆积等。

等离子体的高化学活动不影响基材改变表面性能。

我们可以控制部分离化的气体所具有的能量，使得它们具有非常低的“热”能量。

通过将能量与自由电子结合而不是与重的离子结合，可以处理对热敏感的聚合物(例如聚乙烯和聚丙烯)。

能量是如何与气体结合的呢?大多数情况下是通过在两个电极之间施加电场在低电压下进行的。

这是一种类似日光灯的装置，唯一的区别就是不会发光。

控制他的化学性质来处理表面。

在大气压下也会产生等离子体。

过去，大气压等离子体由于温度过高，不能作为表面处理的工具。

最近改进的技术可以在大气压力下产生低温等离子体，适用于大多数对温度敏感的聚合物的处理。

等离子观影是产生等离子体的装置，在密封容器中设置两个电极形成电场，通过真空泵实现一定的真空度。随着气体变薄，分子间的距离以及分子和离子的自由移动距离变长，在电场的作用下发生碰撞，形成等离子体。几乎所有的化学键足以破坏它的能量，在任何暴露的表面引起化学反应，不同的等离子体气体具有不同的化学特性，如氧气，等离子体具有非常高的氧化性，氧化剂可产生宫胶反应达到清洗气体的效果;腐蚀性气体等离子体具有良好的各向异性，可以满足蚀刻的需要。

因为用等离子体处理的话会发出辉光，所以被称为辉光放电处理。

等离子体清洗的原理主要是通过等离子体中的活粒子的“活化作用”来去除物体表面的污垢。

从反应机理的角度来看，等离子体清洗通常包括以下过程:被无机气体等离子体激发;气相物质被吸附在固体表面;吸附基与固体表面的分子反应被生成生成物分子;产物分子解析形成气相;反应残渣离开表面。

等离子体清洗技术的最大特点是，可以对任何处理对象的基材类型进行处理，包括金属、半导体、氧化物、聚丙烯、多脂质、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧，甚至聚四氟乙烯等。可处理多种高分子材料，可整体和局部、复杂结构的清洗。

等离子体清洗还具有几个特点:易于采用数控技术，自动化程度高。高精度控制设备，时间控制精度高;正确的等离子体清洗不会损伤表面层，表面质量有保证;因为是在真空中进行，所以不会污染环境，防止清洗面的二次污染。