氩在真空等离子清洗机中的主要功能是什么

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等离子清洗机使用多种工艺气体。表面清洁和活化通常采用氧、氢、氮和压缩空气，但根据不同的工艺要求也可使用氩气。

那么为什么要使用这种气体，它在等离子体清洁器中的主要功能是什么。今天就和大家分享氩在真空等离子清洗机中的应用知识，供大家参考。

一、概述

Ar简称为Ar，英文名为Ar，化学式为Ar。这是一种无色无味的惰性气体。它通过高压气瓶运输和储存.主要用于工业中的金属电弧焊和切割保护。

氩气是一种惰性气体。电离后产生的离子不会与基底发生化学反应。在等离子清洗中，主要用于基体表面的物理清洗和表面粗糙化。最大的特点是用于表面清洗。不会造成精密电子器件的表面氧化。正因为如此，氩等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。

二、辉光放电颜色

真空等离子体清洁器中氩气电离产生的等离子体是暗红色的。在相同的放电环境下，氢气和氮气产生的等离子体颜色都是红色的，但氩等离子体的亮度低于氮气，高于氢气，这是比较容易区分的。

三、应用介绍。

1.表面清洗

在硅片、玻璃等产品的表面除颗粒过程中，通常采用氩等离子体轰击表面颗粒，以达到颗粒破碎和松动的效果。（与基体表面分离），然后结合超声波清洗或离心清洗等工艺去除表面的颗粒。特别是在半导体封装工艺中，为了防止引线键合工艺完成后的氧化，采用氩等离子体或氩氢等离子体进行表面清洗。

2.表面粗糙化

等离子清洗机的表面粗糙化也称为表面蚀刻。其目的是增加材料表面的粗糙度，以增加粘接、印刷、焊接等工艺的结合力。氩等离子清洗机处理后的表面张力将得到明显改善。活性气体产生的等离子体也可以增加表面的粗糙度，但氩气电离产生的颗粒相对较重，而氩离子在电场作用下的动能会明显高于活性气体，因此粗化效果会更强。显然，它在无机基材的表面粗糙化工艺中应用最为广泛。如玻璃基板表面处理、金属基板表面处理等。

3.由活性气体辅助

在等离子体清洗器的活化和清洗过程中，工艺气体常常被混合，以获得更好的效果。

由于氩的分子比较大，电离后产生的颗粒比较大，在清洁和活化表面时通常与活性气体混合。最常见的是氩和氧的混合物。

氧是一种高活性气体，能有效地分解有机污染物或有机底物表面，但其颗粒相对较小，断键和轰击的能力有限。如果加入一定比例的氩气，所产生的等离子体将对有机污染物或有机基板表面具有更强的断键和分解能力，清洗和活化效率将加快。

氩和氢的混合物用于引线键合和键合工艺。除了增加焊盘粗糙度外，还能有效去除焊盘表面的有机污染物，同时减少表面的轻微氧化。广泛应用于半导体封装、SMT等行业领域中广泛应用。